罗门哈斯电子材料购193nm浸没式光刻设备

日期：2007-07-02

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        Rohm and Haas Electronic Materials（罗门哈斯电子材料公司）将在前沿光刻设备方面投资6000万美元，为其用于半导体芯片制造的先进193nm光刻胶以及抗反射涂敷材料研发提供支持。 

        作为此项投资的一部分，Rohm and Haas Electronic Materials将购买一台ASML制造的TWINSCAN(TM) XT:1900Gi 193nm浸没式光刻设备。该设备将与包括新的300mm涂敷设备以及缺陷检测设备等一道于明年首季度完成安装。 

       该公司微电子技术研发总监Peter Trefonas博士表示，添置一台浸没式光刻设备对Rohm and Haas来说是一项重要的投资，考虑到全球领先的半导体制造商已在其生产线上安装先进的浸没式光刻设备，这项投资无疑将提高客户对公司产品的认可度。

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