IMEC宣布将于2010年导入ASML的β版EUV曝光装置

日期：2007-10-24

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比利时的IMEC宣布将于2010年导入荷兰ASML的EUV（extreme ultraviolet）曝光装置——“PPT（pre-production tool）”。PPT相当于量产评估用β机，能够应用于22nm工艺CMOS技术的研发。

　　IMEC同时还表示，还展示了已导入完毕的ASML α机——“ADT（alpha-demo tool）”的锡光源曝光结果。该公司于2007年9月底，利用灵敏度为18mJ/cm2的光刻胶“MET-2D”，曝光形成了线宽及线间隔为35nm及40nm的图案。ADT最初预定采用低功率的氙光源，但考虑到量产时必须采用高功率的锡光源，所以改用了锡光源。 

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