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IC设计成本提升 研发支出持续增长
日期:2008-07-11 来源:

  据IC Insights发表的报告称,2008年第一季度全球半导体研发支出达到111亿美元,比2007年同期的100亿元增长12%。研发支出占半导体营收的比率为17.5%,而去年同期为16.4%。

  在2007全年度中,包括IDM、无工厂企业与纯粹代工企业总共支出457亿美元于新IC产品的研发与相关工程活动上,比2006年度的425亿美元增长8%。

  2007年全年研发支出占半导体营收的比重为17.9%,2006年为17.2%,1990~2007年平均比率为14.9%。

  由于下一代IC工艺研发成本越来越高,IC设计成本暴增,自从上个世纪90年代初期以来,研发与工厂支出增加的速度就高于产业营收增长的速度。研发与工程支出在1990~2007年之间的平均年复合增长率为12.7%,而半导体营收的平均增长率为9.9%。IC Insights预期这样的趋势在未来10年还会持续,不过该公司预测2008年度的研发与工程支出将仅增长8%,至492亿美元。

  在2008年第一季度,IDM厂商花费手中的17.9%用于研发支出,无工厂企业(Fabless)是25.1%,而纯代工厂商只有7.1%。

  在2007年度,研发支出最多的10家企业依次为:英特尔(Intel)、三星(Samsng)、德仪(TI)、东芝(Toshiba)、AMD、意法(STM)、瑞萨(Renesas)、博通(Broadcom)、恩智浦(NXP)、高通(Qualcomm)。

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