日期：2015-02-10 来源：

　　近日设想发明一种新式电容，我称为“层叠式金属——氧化物电容”。当然这可能只是外行的想法，实现起来有困难。其结构示意图如下：

      
         可以看出来，其结构与层叠式陶瓷电容类似，只是把电介质陶瓷换成了金属氧化物。当然，金属膜可以换成金属化膜。也就是说，这种电容借鉴了层叠式陶瓷电容、电解电容、金属化有机薄膜电容的部分优点——层叠、氧化膜为电介质、金属化膜。所以，容量体积比应该能够做得很大。当然这只是个电容芯子的示意图。事实上，要正式生产可能还有很多工艺难题。比如，上图　　　　中极间空白的地方肯定要有绝缘填充物，否则金属化膜就无所依附了。就像下图中的涂黑的地方是要放填充物的。

　　 制造过程我的设想是，第一层可以用层较厚的金属膜（假设为电极A），然后是使其一面氧化（同时要考虑在另外一个电极的交接处刷一层绝缘物质），然后，氧化层的上面喷金属层（这个应该是工艺难点），这个金属层作为另外一个电极（假设为电极B）。然后使这个金属膜另一面氧化（接近电极B的地方刷绝缘物质），氧化层上面再喷金属层（电极A），再氧化，再喷金属层（电极B），如此累加。最后，所有的A电极层连在同一个焊端上，所有的B电极层也连在同一个焊端上。即使现在这个设想不可能实现，说不定以后也能实现。