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美光携手南亚科技开发20纳米芯片制程技术
日期:2010-03-05 来源:

  据国外媒体报道,台湾南亚科技总裁连日昌周三表示,公司目前正在与合作伙伴美光科技联手,共同为未来的DRAM生产开发先进的20纳米芯片制程技术。

  这 项先进的芯片制程技术有助于提高芯片性能、减少芯片耗电量、降低芯片生产成本。连日昌周三在台北的一次媒体活动中说,企业要想在未来五年的DRAM市场上 保持竞争力,拥有领先技术至关重要。

  采用20纳米制程技术生产芯片将有助美光和南亚科技与业界领先企业三星电子展开更加有效的竞争。当前,三星已经在它的生产线上采用了30纳米芯片制程技术。三星称,使用30纳米制程技术生产的2GB DDR3芯片耗电量比使用50纳米制程技术生产的产品耗电量少30%,能效却提高了一倍多。

  三星凭借生产DRAM的30纳米制程技术领先于其他对手。美光和南亚最近也表示,他们在DRAM生产线上采用了42纳米制程技术,并在实验室中开发出了接近30纳米的制程技术。

  连日昌没有给出美光和南亚科技联手开发20纳米芯片制程技术的时间表,也没有透露更多有关双方开发20纳米芯片制程技术的细节。

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